機(jī)遇與挑戰(zhàn):
- 光刻向0.13微米的更小尺寸轉(zhuǎn)變
- 采用新型金屬化方案
- 向300mm外延片過(guò)渡
- 2010年,00mm外延片需求量將增至45億,較2009年的36億增長(zhǎng)27.2%
- 150mm外延片的需求量將僅增長(zhǎng)9.6%,200mm外延片需求量將增長(zhǎng)7%
- 2013年,300mm外延片產(chǎn)量將從2008年的36億平方英寸增長(zhǎng)到61億平方英寸
據(jù)市調(diào)機(jī)構(gòu)iSuppli最新的資料顯示,2010年,由于300mm(12英寸)外延片的出貨量大增,因此,全球用于半導(dǎo)體制造的硅片市場(chǎng)需求量強(qiáng)勁反彈。
iSuppli指出,2010年,300mm外延片的需求量將增至45億,較2009年的36億增長(zhǎng)了27.2%,是市場(chǎng)增長(zhǎng)最快的區(qū)間。反之,2010年,150mm(6英寸)外延片的需求量將僅增長(zhǎng)9.6%,200mm(8英寸)外延片需求量將增長(zhǎng)7%。
iSuppli預(yù)測(cè),2013年,300mm外延片產(chǎn)量將從2008年的36億平方英寸增長(zhǎng)到61億平方英寸,復(fù)合年均增長(zhǎng)率為12.4%。相比之下,2013年,200mm外延片將從2008年的30億平方英寸下降到27億平方英寸,復(fù)合年均增長(zhǎng)率為負(fù)2%。
繼2001年經(jīng)濟(jì)衰退后,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開始出現(xiàn)三個(gè)主要技術(shù)轉(zhuǎn)變:光刻向0.13微米的更小尺寸轉(zhuǎn)變,采用新型金屬化方案,向300mm外延片過(guò)渡。當(dāng)時(shí),由于制造商轉(zhuǎn)向最具成本效益的200mm和300mm外延片,顯然,6英寸外延片已不再受關(guān)注。
iSuppli表示,2009年經(jīng)濟(jì)衰退后,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)采用300mm外延片的趨勢(shì)非常明顯,50%的制造商都轉(zhuǎn)向采用這種較大尺寸的外延片。如同150mm外延片在2001年衰退之后失寵一樣,iSuppli預(yù)測(cè),200mm外延片將在2009年衰退后淡出。
iSuppli:2008年至2012年,全球不同尺寸半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)需求量狀況