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孰優(yōu)孰劣:氮化鎵場效應(yīng)晶體管VS硅功率器件?

發(fā)布時間:2013-05-16 責(zé)任編輯:felixsong

【導(dǎo)讀】工程師常常認為當應(yīng)用需要更高電壓時,使用氮化鎵場效應(yīng)晶體管(eGaN FET)在性能方面才更具優(yōu)勢。但是,如果只是考慮開關(guān)品質(zhì)因數(shù),相比先進的MOSFET器件,200V的eGaN FET器件的優(yōu)勢好像減弱了。GaN場效應(yīng)晶體管與硅功率器件中低壓降壓轉(zhuǎn)換器應(yīng)用中的性能到底怎樣?且聽本文細細分析。
 
工程師常常認為當應(yīng)用需要更高電壓時,使用氮化鎵場效應(yīng)晶體管(eGaN FET)在性能方面更具優(yōu)勢。但我們從硅場效應(yīng)晶體管(Silicon FET)及氮化鎵場效應(yīng)晶體管的開關(guān)品質(zhì)因數(shù)(FOM)與電壓關(guān)系的比較可以看到,eGaN FET在整個電壓范圍內(nèi)具備更大優(yōu)勢。如果只是考慮開關(guān)品質(zhì)因數(shù),相比先進的MOSFET器件,200V的eGaN FET器件的優(yōu)勢好像減弱了。

可是,由于eGaN FET器件并沒有體二極管反向恢復(fù)(QRR),其實際在電路的性能優(yōu)勢可以更大。相反,在低電壓范圍內(nèi),eGaN FET器件在電路的性能優(yōu)勢實際上沒有如品質(zhì)因數(shù)所描述的卓越,這是因為受QRR影響的重要性減弱及體二極管前向壓降更為重要。此外,當我們所需器件的電壓降低至低于目前eGaN FET的電壓范圍,硅基開關(guān)解決方案如基于LDMOS的器件(帶或不帶垂直端子)將成為可行的另一個選擇??墒?,eGaN FET的發(fā)展還在剛剛起步,它將來在低壓及高壓領(lǐng)域?qū)⑼瑯泳吒咝阅軆?yōu)勢。下面我們將討論兩個具有不同電壓轉(zhuǎn)換范圍的降壓轉(zhuǎn)換器,并對它們與等效先進MOSFET器件的性能進行比較。

圖1:硅MOSFET及氮化鎵場效應(yīng)晶體管的品質(zhì)因數(shù)與電壓關(guān)系的比較
圖1:硅MOSFET及氮化鎵場效應(yīng)晶體管的品質(zhì)因數(shù)與電壓關(guān)系的比較

低壓降壓轉(zhuǎn)換器應(yīng)用


很多負載點(POL)應(yīng)用適合用于工作電壓為5V或12V電源軌的降壓轉(zhuǎn)換器。在更低電壓及小電流的情況下,功率MOSFET可以單片地集成,而在大電流 及高壓下,混合功率模塊及分立解決方案則非常普遍。按不同的負載要求,典型的電流值為每相20A,雖然單相的輸出功率也有可能高達40A。在較大的負載電 流要求如電壓調(diào)節(jié)模塊(VRM),我們使用交織的多相降壓來提高效率及動態(tài)響應(yīng)。目前逐步發(fā)展的V-core功率架構(gòu)及其它敏感的負載所要求的更快動態(tài)響應(yīng)及更高頻寬都會影響基于氮化鎵場效應(yīng)晶體管的負載點解決方案的普及速度。在可實現(xiàn)的MHz開關(guān)頻率范圍內(nèi)推動使用更小電感及電容,因此可實現(xiàn)更小型、具更低系統(tǒng)成本的、基于eGaN FET的負載點系統(tǒng)。使用電池的便攜應(yīng)用(10V~12V)規(guī)定必需符合最小效率要求,但同時需要一個外置適配器使之可以工作在19V及工作在設(shè)計的熱限制下。19V輸入需要30V或以上的MOSFET器件。雖然負載電壓不同,但我們通常在1.2V輸出電壓對轉(zhuǎn)換器進行比較。

我們使用含eGaN FET的演示板(EPC9101)與使用相同降壓控制器的含MOSFET演示板(DC1640A-B)進行比較,后者經(jīng)過修改,以匹配前者的輸入及輸出電容、電感及工作頻率。此外,所采納的MOSFET也改為與eGaN FET具相同導(dǎo)通電阻(RDS(ON))。測試電路板的照片如圖2所示。我們通過使用電路板上的電壓感應(yīng)通孔,測量盡量接近實際轉(zhuǎn)換器電路的輸入及輸出電壓,測量結(jié)果見圖3。由于這個應(yīng)用關(guān)注eGaN FET的體二極管具更高前向電壓,當首次測量效率時,死區(qū)時間增加至包括大約在每個開關(guān)邊緣(每個周期為20ns)的10ns體二極管傳導(dǎo)。此外,EPC2015器件與3A肖特基二極管并聯(lián),并再次測量其效率。根據(jù)這些測量條件,圖4及5分別展示12V及19V輸入效率的結(jié)果。
圖2:在低壓降壓轉(zhuǎn)換器使用EPC9101及經(jīng)過修改的DC1640A-B演示板的比較
圖2:在低壓降壓轉(zhuǎn)換器使用EPC9101及經(jīng)過修改的DC1640A-B演示板的比較
 
圖3:所選的低壓降壓轉(zhuǎn)換器規(guī)格的比較
圖3:所選的低壓降壓轉(zhuǎn)換器規(guī)格的比較
 
圖4:在12 V轉(zhuǎn)1.2V、1 MHz降壓轉(zhuǎn)換器,eGaN FET與MOSFET器件效率的比較
圖4:在12 V轉(zhuǎn)1.2V、1MHz降壓轉(zhuǎn)換器,eGaN FET與MOSFET器件效率的比較
圖5:在19 V轉(zhuǎn)1.2V、1MHz降壓轉(zhuǎn)換器,eGaN FET與MOSFET器件效率的比較
圖5:在19V轉(zhuǎn)1.2V、1MHz降壓轉(zhuǎn)換器,eGaN FET與MOSFET器件效率的比較

在輸入電壓范圍內(nèi),每個周期中的二極管導(dǎo)通時間增加20ns將使基于eGaN FET的轉(zhuǎn)換器效率降低約2%至3%??墒窃谳p載時(低于3A),效率實際上會稍為提高,因為這種額外死區(qū)時間可容許交換節(jié)點電壓的自我轉(zhuǎn)換。為了獲得最佳的滿負載工作性能而使用短死區(qū)時間意味著在輕載時會發(fā)生強制轉(zhuǎn)換。

使用額外增加的肖特基二極管極大地提高了效率,其效果差不多相等于優(yōu)化開關(guān)時間。在所有的測試工作條件下,基于eGaN FET轉(zhuǎn)換器的效率比使用等效MOSFET電路的轉(zhuǎn)換器高出3至7個百分點。實際上,相比等效MOSFET于12V輸入時的效率,經(jīng)過優(yōu)化的eGaN FET工作在19V輸入時具備更高的效率。

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中壓降壓轉(zhuǎn)換器應(yīng)用

對于超出30V MOSFET性能的更高電壓來說,應(yīng)用空間會有所變化,并且沒有特別的大批量應(yīng)用。幾乎所有電信轉(zhuǎn)換器都使用-48V電源,因此要求針對步降至+12V或+24V總線進行隔離;而計算與網(wǎng)絡(luò)設(shè)備一般都使用+48V的總線,因此只是當沒有強制性隔離要求才有可能使用降壓轉(zhuǎn)換器。無論是否實際應(yīng)用,在中壓范圍內(nèi),MOSFET與eGaN FET可以通過考慮如圖7所示的通用降壓應(yīng)用作出比較。

我們使用兩個中壓降壓轉(zhuǎn)換器演示板來比較eGaN FET及MOSFET器件的性能。兩塊標準的演示電路都已修改為具有相同輸入及輸出電容、電感及工作頻率。圖6展示兩塊測試電路板的照片。于低壓轉(zhuǎn)換器的比較一樣,MOSFET器件也改為與eGaN FET具有相同導(dǎo)通電阻。為確保取得準確的測量結(jié)果,我們通過使用所增加的通孔來測量輸入及輸出電壓,以盡量接近實際轉(zhuǎn)換器的輸入及輸出電壓,測量結(jié)果見圖7
圖6:用于中壓降壓轉(zhuǎn)換器并經(jīng)過修改內(nèi)含LM5113及LM5116演示板的比較
圖6:用于中壓降壓轉(zhuǎn)換器并經(jīng)過修改內(nèi)含LM5113及LM5116演示板的比較
 
圖7:所選的中壓降壓轉(zhuǎn)換器規(guī)格的比較
圖7:所選的中壓降壓轉(zhuǎn)換器規(guī)格的比較

圖8及9分別展示效率結(jié)果及相對的功率損耗結(jié)果。測量點在輸出電流達10安培時或在轉(zhuǎn)換器的總功率損耗達10W時比較,要看那一點首先出現(xiàn)。結(jié)果清楚地表明,相比MOSFET器件,eGaN FET在效率方面極大地提高了4至8個百分點。更重要的是,當基于MOSFET器件的轉(zhuǎn)換器的功率損耗達10W時,基于eGaN FET的轉(zhuǎn)換器的損耗小于前者的一半,致使轉(zhuǎn)換器的功率損耗減少超過50%。這些損耗包括非器件損耗如電感磁芯及銅損耗,因此減少了的器件損耗實際上更大。同樣地,由于基于eGaN FET的轉(zhuǎn)換器的死區(qū)時間設(shè)置為給重負載而經(jīng)過優(yōu)化,它的零電壓開關(guān)的損耗構(gòu)成兩個轉(zhuǎn)換器的無負載損耗。
圖8:在36V- 60V轉(zhuǎn)12 V、500kHz 降壓轉(zhuǎn)換器,氮化鎵與MOSFET器件的效率比較
圖8:在36V-60V轉(zhuǎn)12V、500kHz降壓轉(zhuǎn)換器,氮化鎵與MOSFET器件的效率比較
圖9:在36 V- 60V轉(zhuǎn)12 V、500kHz 降壓轉(zhuǎn)換器,氮化鎵與MOSFET器件的功率損耗比較
圖9:在36V-60V轉(zhuǎn)12V、500kHz降壓轉(zhuǎn)換器,氮化鎵與MOSFET器件的功率損耗比較

本文描述了我們構(gòu)建可比的、在低壓及中壓應(yīng)用使用商用的eGaN FET及MOSFET展示板電路的降壓轉(zhuǎn)換器。兩塊板都經(jīng)過修改為具有相同導(dǎo)通電阻,從而取得可比的傳導(dǎo)損耗。使用氮化鎵器件可大大提高低壓及中壓的轉(zhuǎn)換 器的效率達3至8個百分點,這個效率方面的改進在中壓轉(zhuǎn)換器的比較結(jié)果更為明顯。結(jié)果表明,相比直向MOSFET器件,在電壓低至最小30V,eGaN FET具備更卓越的性能。當這個氮化鎵新科技繼續(xù)改進,它的性能將在所有的電壓范圍遙遙領(lǐng)先并可以在更低壓的領(lǐng)域替代MOSFET器件。

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