你的位置:首頁(yè) > 電源管理 > 正文

2019電源發(fā)展新趨勢(shì):密度、EMI和隔離

發(fā)布時(shí)間:2019-05-28 責(zé)任編輯:xueqi

【導(dǎo)讀】電源在調(diào)節(jié)、傳輸和功耗等各個(gè)方面都成為日益重要的話題。人們期望產(chǎn)品功能日趨多樣、性能更強(qiáng)大、更智能、外觀更加酷炫,業(yè)界看到了關(guān)注電源相關(guān)問(wèn)題的重要意義。2019年三大廣泛的問(wèn)題最受關(guān)注,即:密度、EMI和隔離(信號(hào)和電源)。
 
實(shí)現(xiàn)更高的密度:將更多電源管理放入更小的空間
 
由于IC光刻工藝和每個(gè)功能運(yùn)行功率的大幅縮減,使得芯片上可集成更多功能和柵極,對(duì)成品的總體功率需求迅速增長(zhǎng),如圖1所示。一些處理器現(xiàn)在可以消耗幾百安培電流,并且可以在不到一微秒的時(shí)間內(nèi)從低電流狀態(tài)上升到完全激活狀態(tài)。通過(guò)降低損耗和提高熱性能實(shí)現(xiàn)“在硬幣大小的面積上達(dá)到千瓦級(jí)功率”的密度目標(biāo)并非一句玩笑話。
 
圖1:從1992年到2010年的產(chǎn)品熱密度發(fā)展趨勢(shì)
 
問(wèn)題不僅在于管理功率和因此產(chǎn)生的功耗。由于存在基本的I2R損耗,即使在電源負(fù)載路徑中明顯“可忽略”的電阻也成為了有效功率輸送的主要障礙:在200 A時(shí),僅1mΩ的引線/走線電阻可導(dǎo)致出現(xiàn)0.2 V IR壓降和40 W損耗。此外,因?yàn)榭梢钥拷?fù)載放置,使用較小的轉(zhuǎn)換器也存在兩難問(wèn)題,,這一方面有利于減少走線損耗和噪聲拾取,但也成為負(fù)載附近的一個(gè)發(fā)熱源,導(dǎo)致溫度升高。
 
與功率密度相關(guān)的趨勢(shì):?jiǎn)晤w“魔彈”可能無(wú)法解決密度難題。解決方案將包括跨學(xué)科改進(jìn),將導(dǎo)致:
·更高頻率的開關(guān);
·將電源管理功能(或其電感)移到處理器散熱器下方;
·更高的軌電壓,如48 V,以最小化IC壓降;
·新封裝類型;
·將無(wú)源元件集成到芯片上或封裝中。
 
減小EMI:發(fā)射導(dǎo)致出現(xiàn)性能不確定和拒絕調(diào)節(jié)
 
圖2:禁用和啟用擴(kuò)頻的噪聲比較
 
隨著電子產(chǎn)品更廣泛、更深入地?cái)U(kuò)展到大眾市場(chǎng)應(yīng)用中,降低EMI已成為一個(gè)更大的問(wèn)題,快速了解一下當(dāng)今的汽車就能證明。實(shí)際上,由于難以抑制AM波段EMI,一些電動(dòng)汽車/混合動(dòng)力汽車不再提供AM無(wú)線電選項(xiàng)。當(dāng)然,汽車中的EMI不僅僅會(huì)影響無(wú)線電,還會(huì)影響任務(wù)關(guān)鍵型ADAS(先進(jìn)駕駛輔助系統(tǒng))功能,如自適應(yīng)巡航控制雷達(dá)。
 
對(duì)設(shè)計(jì)人員來(lái)說(shuō),EMI方面的挑戰(zhàn)在于它通常更像是一門藝術(shù),而非一門科學(xué)。建模是一個(gè)難題,其解決方案通常需要反復(fù)試驗(yàn)才能將其降至所需的最大值。此外,EMI并非單一實(shí)體,而是具有不同的來(lái)源、路徑和外觀。例如,通常引線布線和PCB布局會(huì)產(chǎn)生較強(qiáng)的輻射EMI,而轉(zhuǎn)換器設(shè)計(jì)和無(wú)源濾波器網(wǎng)絡(luò)則產(chǎn)生更強(qiáng)的傳導(dǎo)差分模式EMI。
 
與EMI相關(guān)的趨勢(shì):無(wú)源濾波器之類的解決方案是可用的并且可能非常有用,但它們?cè)诔叽?、重量和成本的可削減區(qū)域內(nèi)僅可達(dá)到一定水平。更大的機(jī)會(huì)在于IC供應(yīng)商如何從源頭解決EMI問(wèn)題,從而提供更好的結(jié)果并增強(qiáng)易用性,以滿足必要的合規(guī)標(biāo)準(zhǔn)要求。
 
這些解決方案詳細(xì)介紹了噪聲的基本原理,并將降噪噪技術(shù)進(jìn)行了分層:
·增加使用擴(kuò)頻技術(shù)來(lái)擴(kuò)散噪聲能量,從而降低其在整個(gè)頻譜上的峰值;
·封裝,包括集成無(wú)源元件,可減少開關(guān)時(shí)引起電壓尖峰和振鈴的寄生效應(yīng);
·調(diào)制功率器件柵極驅(qū)動(dòng),以減少產(chǎn)生噪聲的dV/dt回轉(zhuǎn),同時(shí)不影響效率。
 
增強(qiáng)隔離:確保A點(diǎn)與B點(diǎn)之間無(wú)電流路徑
 
盡管電氣隔離技術(shù)已經(jīng)使用了很多年,但新工程師通常對(duì)其了解甚少。簡(jiǎn)而言之,它提供了一個(gè)屏障,因此輸入和輸出級(jí)之間沒(méi)有歐姆(電流)路徑,但允許電源和信號(hào)能量通過(guò)該屏障。可以通過(guò)各種方法來(lái)實(shí)現(xiàn)隔離,包括光學(xué)、磁性、電容或小型RF耦合,如圖3。
 
電流隔離最常成為以下兩個(gè)主要目的之一。首先,它為具有內(nèi)部潛在危險(xiǎn)性高電壓系統(tǒng)的用戶提供了安全性,它可以確保系統(tǒng)中存在任何內(nèi)部故障時(shí),都無(wú)法影響到用戶。其次,它實(shí)現(xiàn)了一大類創(chuàng)新型電源系統(tǒng)架構(gòu),其中初級(jí)側(cè)和次級(jí)側(cè)之間必須沒(méi)有可能的公共電流,例如當(dāng)一側(cè)接地時(shí),另一側(cè)處于不接地連接的“浮動(dòng)”狀態(tài)。
 
人們對(duì)隔離的需求受到各種情況的驅(qū)動(dòng),例如工廠自動(dòng)化、廣泛的人機(jī)界面(HMI)、太陽(yáng)能電池板和醫(yī)療儀器。GaN和SiC功率器件的dV/dt額定值較高也推動(dòng)了具有挑戰(zhàn)性的隔離要求。
 
與隔離有關(guān)的趨勢(shì):隔離可以僅用于電源軌、信號(hào)線(數(shù)據(jù))或同時(shí)用于兩者。理想情況下,IC供應(yīng)商可以將電源和數(shù)據(jù)隔離集成在同一個(gè)封裝中,以確保安全性和可靠性。此外,由于集成了數(shù)據(jù)和電源隔離功能,IC供應(yīng)商可以針對(duì)這些應(yīng)用中典型的嚴(yán)格EMI標(biāo)準(zhǔn)更好地進(jìn)行控制和設(shè)計(jì)。
 
所需的隔離級(jí)別是應(yīng)用的一大功能:5 kV增強(qiáng)隔離在許多情況下是足夠的,并且有詳細(xì)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)其進(jìn)行定義。
 
由于具有卓越的共模瞬態(tài)抗擾度(CMTI)性能和數(shù)據(jù)完整性,使用隔離電容進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸是一種流行的方法。然而,由于可傳輸?shù)墓β视邢抟约靶?,?duì)于大多數(shù)功率傳輸應(yīng)用來(lái)說(shuō)隔離電容是不可行的。因此,當(dāng)需要功率傳輸時(shí),磁性方法成為了優(yōu)選方案。結(jié)合這兩種方法,可以在同一封裝中實(shí)現(xiàn)完全“自偏置”收發(fā)器等解決方案,同時(shí)具有隔離電源和數(shù)據(jù)連接。此類產(chǎn)品和技術(shù)創(chuàng)新真正改變了這些安全關(guān)鍵應(yīng)用中的游戲規(guī)則。
 
結(jié)論
 
電源功能、組件和傳輸方面的進(jìn)步是跨學(xué)科的,因?yàn)槊芏?、EMI和隔離密切相關(guān)。例如,降低EMI會(huì)導(dǎo)致無(wú)源濾波器尺寸減小,從而獲得更高的功率密度。進(jìn)步將來(lái)自“堆疊”創(chuàng)新,帶來(lái)更多重大技術(shù)發(fā)展。其中包括充分表征的寬帶隙(WBG)功率器件,改進(jìn)的器件管芯熱界面,增強(qiáng)的無(wú)源器件和功能集成,先進(jìn)工藝技術(shù)的開發(fā)和創(chuàng)新的電路IP。
 
德州儀器(TI)作為電源相關(guān)組件和設(shè)計(jì)支持工具的領(lǐng)先供應(yīng)商,正在開發(fā)促進(jìn)和支持這些趨勢(shì)的相關(guān)技術(shù),包括材料、工藝、拓?fù)?、電路和封裝等。
 
來(lái)源:芯聞號(hào)TI德州儀器
要采購(gòu)濾波器么,點(diǎn)這里了解一下價(jià)格!
特別推薦
技術(shù)文章更多>>
技術(shù)白皮書下載更多>>
熱門搜索
?

關(guān)閉

?

關(guān)閉